Podľa Reuters vyvinul tím v Číne prototyp stroja na litografiu s extrémnym ultrafialovým žiarením (EUV), ktorý by mohol časom slúžiť na výrobu čipov poháňajúcich umelú inteligenciu. Tím v meste Shenzhen dokončil prototyp tento rok a údajne prebiehajú testy. Prototyp údajne zostrojili bývalí inžinieri zo holandského dodávateľa ASML. Reuters tiež uvádza, že Čína plánuje začať s výrobou vlastných EUV čipov približne v roku 2028, hoci niektorí experti odhadujú skorší alebo neskorší dátum. EUV predstavuje mimoriadne zložitú technológiu, ktorá je v jadre vývoja čipov spoločností Intel a TSMC; ak chce niektorá firma konkurovať, potrebuje aj prístup k EUV. Hoci čínsky prototyp zatiaľ nevyrába čipy, podľa správ dokáže generovať potrebné EUV žiarenie pre výrobné procesy. Potvrdenie tohto vývoja by Číne mohlo poskytnúť vplyv ešte skôr, než sa analytikom pôvodne predpokladalo. Doteraz bola technológia EUV prevažne v rukách západných firiem a často slúžila ako páka v geopolitických rokovaniach. Čínsky prezident Si Ťin-pching kladie veľký dôraz na to, aby krajina dokázala vyrobiť svoje vlastné polovodiče. Cieľom je vyrábať pokročilé čipy na strojoch kompletne vyrobených v Číne a zredukovať účasť Spojených štátov vo svojich dodávateľských reťazcoch.