Podľa správ The Japan Times a The Jakarta Post Čína údajne rozbieha projekt, ktorý médiá opisujú ako vlastný Manhattan Project v oblasti AI čipov, s ambíciou konkurovať západu v produkcii najmodernejších polovodičov. Cieľom je vybudovať kapacity na výrobu čipov, ktoré poháňajú umelú inteligenciu, smartfóny a vojenské systémy.
Podľa týchto článkov ex-inžinieri ASML údajne vykonali reverzné inžinierstvo EUV litografických strojov a zostavili prototyp z dielov starších strojov zo sekundárneho trhu.
Vo vysoko zabezpečenom zariadení v Šen-čen-e údajne vznikol prototyp stroja, ktorý by mohol vyrábať špičkové polovodičové čipy potrebné pre AI a ďalšie technológie, čím by malo ísť o významný krok pre čínsku doménu v tejto oblasti.
Tieto správy tiež podnecujú diskusiu o geopolitickom napätí okolo exportných obmedzení a dodávok technológií pre polovodiče, ktoré formujú súčasné a budúce rozloženie síl na svetovej scéne.