Čína zvyšuje výstup AI čipov prostredníctvom modernizácie starších strojov od firmy ASML. Zakázané alebo obmedzené nástroje na výrobu čipov sú preinštalované a upravované s cieľom umožniť produkciu pokročilých AI čipov. Tento postup podľa analytikov odhaľuje medzeru v exportných kontrolách, ktoré vedú Spojené štáty a ich spojenci, a zároveň ukazuje úsilie Číny posilniť domáci dodávateľský reťazec.
Ďalšie správy naznačujú aj rozšírené úsilie v oblasti EUV litografie: údajne bol v Šen‑čene vybudovaný stroj na EUV litografiu umiestnený v vysokokritickom a štátom riadenom prostredí. Podľa zdrojov je stroj plne prevádzkový a dokáže generovať EUV svetlo, hoci ešte nevyrába funkčné čipy. Niektorí články opisujú tento projekt ako súčasť koordinovaného národného úsilia byť menej závislým od zahraničných technológií a zabezpečiť pokročilé výrobné kapacity.
Podľa niektorých správ by Čína mohla dosiahnuť výstup AI čipov do roku 2028, čo by znamenalo výraznejšie posilnenie domácej výroby a zmeny v globálnom dodávateľskom reťazci. Tieto kroky zdôrazňujú tlak na západné krajiny, aby prehodnotili exportné pravidlá a ich dopad na rozvoj najmodernejších technológií.